【純水設備www.kkmonlee.com】隨著我國經濟的高速發展，半導體行業的發展也在迅速崛起，因此在半導體工業加工的過程中不可避免的會產生含有氟離子，銅離子，磷廢水的污染物廢水，下面就來列舉一些半導體工業廢水的處理方法都有哪些?

半導體工業的污水應該怎么處理？

方法/步驟

　　含氟離子廢水處理：

　　將廢水的p H值調整在6-7左右，再加入的過量的Ca Cl2和適量的絮凝劑，后續會行形成沉淀，部分污泥循環成為載體，在沉淀池中通過重力沉降能夠實現泥水分離。

　　第一次反應時能夠去除80%的氟，純水設備再一次加入絮凝劑，氟化鈣及其其他形態沉淀，利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運，這時候產生的壓濾液進入其他的系統進一步處理。

　　含磷離子廢水處理：

　　含磷廢水中磷主要以PO43-為主，采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法的組合工藝，通過加入Ca Cl2生成難溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。

　　一級反應池的p H調整到5-6左右，二級反應池p H調整到8.5-9，三級反應池p H調整到9-9.5(確保完全生成羥基磷酸鈣)，純水設備此工藝流程比較簡單，費用也比較低，對于含磷廢水處理有很大的適用性。

　　與研磨廢水進行混合：

　　將半導體器件制造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合，混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾，過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾，經過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。蘇州皙全皙全純水設備公司可根據客戶要求制作各種流量的純水設備，實驗室純水設備,GMP醫用純化水設備，半導體超純水設備。